-
1 chemische Fällung
-
2 chemisches Abscheiden
Deutsch-Russische Wörterbuch der Chemie > chemisches Abscheiden
-
3 chemische Abscheidung f
Deutsch-Russische Wörterbuch der Elektronik > chemische Abscheidung f
-
4 stromloses Abscheiden
химическое осаждение, осаждение без наложения тока, осаждение методом химического восстановленияDeutsch-Russische Wörterbuch der Chemie > stromloses Abscheiden
-
5 chemische Dampfabscheidung
химическое осаждение из газовой [паровой] фазыDeutsch-Russische Wörterbuch polytechnischen > chemische Dampfabscheidung
-
6 metallorganische chemische Dampfabscheidung
Deutsch-Russische Wörterbuch polytechnischen > metallorganische chemische Dampfabscheidung
-
7 PCVD-Prozeß
сокр.микроэл. плазмохимический метод осаждения, плазмохимическое осаждение, химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием, химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированием -
8 plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung
прил.микроэл. плазмохимическое осаждение, химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием, химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемУниверсальный немецко-русский словарь > plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung
-
9 plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase
прил.микроэл. плазмохимическое осаждение, химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием, химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемУниверсальный немецко-русский словарь > plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase
-
10 plasmaunterstützte
прил.микроэл. плазмохимическое осаждение, химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием, химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированием -
11 plasmaunterstützte CVD
прил.микроэл. плазмохимическое осаждение, химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием, химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемУниверсальный немецко-русский словарь > plasmaunterstützte CVD
-
12 CVD
-
13 Foto-CVD
сущ.микроэл. инициируемое излучением УФ-лазера, химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из паровой фазы -
14 LPCVD
сущ. -
15 Low-Pressure CVD
сущ.микроэл. химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении, химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении -
16 V-CVD
сущ. -
17 Vakuum-CVD
сущ.микроэл. химическое осаждение из газовой фазы в вакууме, химическое осаждение из паровой фазы в вакууме -
18 chemische Dampfabscheidung
прил.микроэл. химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из паровой фазыУниверсальный немецко-русский словарь > chemische Dampfabscheidung
-
19 MO-CVD
сущ. -
20 MOCVD
- 1
- 2
См. также в других словарях:
химическое осаждение — Осаждение металла из растворов солей путем введения другого металла или реагента в раствор. [http://sl3d.ru/o slovare.html] Тематики машиностроение в целом … Справочник технического переводчика
Химическое осаждение — Chemical deposition Химическое осаждение. Осаждение металла из растворов солей путем введения другого металла или реагента в раствор. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ;… … Словарь металлургических терминов
химическое осаждение — cheminis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical deposition vok. chemische Abscheidung, f rus. химическое осаждение, n pranc. déposition chimique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение атомарных слоев из паров — То же, что осаждение атомарных слоев [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN ALCVDatomic layer chemical vapor deposition … Справочник технического переводчика
ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ — получение твердых веществ с помощью химических реакций, в которых участвуют газообразные реагенты. Используют для получения текстурированных покрытий, монокристаллов, эпитаксиальных и монокристаллических пленок (напр., в планарной технологии),… … Большой Энциклопедический словарь
химическое осаждение из паровой фазы — Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление. [http://www.cscleansystems.com/glossary.html]… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений — Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN LPCVDLow Pressure Chemical Vapor Deposition … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — — [А.С.Гольдберг. Англо русский энергетический словарь. 2006 г.] Тематики энергетика в целом EN low pressure chemical vapor depositionLPCVD … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы с плазмой высокой плотности — — [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN HDPCVD … Справочник технического переводчика